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全新的 SiliconSmart DFM，Talus DFM 以及 Quartz DRC-Litho產品實現了有DFM意識的設計方案 美國加利福尼亞州聖塔克拉拉市，2006年7月17日訊—半導體設計軟體供應商捷碼 (Magma)®設計自動化有限公司（納斯達克股票交易代碼：LAVA），於今日發布了一款綜合的、全新的、面向亞納米設計的可製造性設計（DFM）方法。Characterization-to-Silicon™（特徵表徵到矽片）的可製造性設計流程包括實現模型特徵表徵的全新SiliconSmart® DFM、實現設計實施的Talus™ DFM，以及實現簽核驗証的Quartz™ DRC-Litho。捷碼（Magma）結合了基於模塊和規則的方法，實現了唯一整合的流程，更好地解決了偏差問題，同時最小化了系統的和參數的良率損失。利用這一流程，用戶能夠準確地預測、預防並糾正與DFM相關聯的問題，實現更快速度的出片、達到更高的良率，並有效降低設計的負面影響。由於準確的簽核設計DFM規則檢查是在整個實施流程中完成的，因此從設計移交到製造的過程也同時得以簡化。 捷碼（Magma）公司設計實施業務部總經理Kam Kittrell 表示：“可製造性設計是一項極其複雜的任務，利用單點工具或者後布局規劃的調整，根本無法完完整整地、有效地完成這一任務。”他繼續評論道：“對於65納米的設計而言，在實施階段必須滿足DFM條件，才能確保矽片的成功。捷碼（Magma）的特徵表徵到矽片流程恰恰能夠達成這一目標，而且，通過與代工廠和積體器件製造商（IDMs）的緊密合作，捷碼（Magma）公司已經開發出了光刻和化學機械研磨（CMP）建模，其準確度完全能夠滿足制造工藝過程中的偏差和細微瑕疵的需求，有效降低了敏感度，實現了魯棒性更強的設計。” 捷碼（Magma）是唯一能夠提供完整的、具有可製造意識設計方法的公司，曾經開發出了號稱公司黃金標準的QuickCap 3D 電容提取工具、業界領先SiliconSmart 數據庫特徵環境、基於實施的統一數據模型、精確的矽片統計靜態時序分析（SSTA）以及物理校驗軟體。全新的SiliconSmart DFM 實現了具有偏差意識的特徵表徵環境，生成用於統計時序和洩漏分析的模型。Talus DFM 通過提供精確的代工廠單元良率和關聯良率預測、預防和修正，同時解決了隨機的和系統的良率損失。有效的光刻模擬是內置的，能夠提供危點的辨別和消除。Quartz SSTA 在工藝流程和設計變化的前後提供了時序分析和優化。Quartz DRC 實現了基於GDS的DFM分析、一致性校驗和改進。這一綜合的DFM解決方案能夠通過Talus平台訪問，實現了更快的周期和更高品質的設計。 特徵表徵：SiliconSmart 可製造性設計 實施：Talus DFM、Quartz SSTA 捷碼（Magma）公司有DFM意識的實施流程實現了面向面積、時序、功率、噪音以及良率的協同優化。通過在傳統的基於規則的實施流程中增加基於模型的DFM解決方案，無需影響設計周期或者犧牲性能就能夠實現優秀的良率管理。准確的系統性偏差建模有效改善了設計時序和洩漏，改善率可達15%。Quartz SSTA 提供了完善的簽核品質的設計環境，包括處理工藝過程偏差的統計學方法，以減少設計的消極因素和過多的設計餘量。通過減少消極因素，即可實現尺寸更小的晶片，或者實現性能的改善。利用基於臨界面積分析的線路加寬和分布，使得設計得以優化，從而降低了良率的損失。捷碼（Magma）固有的布線規劃優勢使得設計路徑減少了40%。冗餘路徑和推薦的線端擴展確保了路徑的可靠性。光刻危點以DRC-clean（設計規則檢查）和時序意識的方式得以識別並消除。化學機械研磨（CMP）的影響能夠被精確建模，為設計師們提供了偽金屬填充質量的即時反饋。Talus DFM 和 Quartz SSTA 被完全整合在Talus 實施平台上，從而簡化了DFM規則。 驗証：Quartz DRC/LVS/LithoQuartz DRC/LVS/Litho 實現了簽核品質的物理驗証環境。該系統以獨特的管道架構為基礎，提供了計算的可擴展性，能夠在不到2個小時的時間內處理任意規模的設計。嵌入的DFM光刻效果模型允許對實際的矽片進行分析，而不是只針對畫出的圖形。基於模型的設計驗証方法對於減少參數的和系統的良率損失是必需的。相同的具有簽核精度的DRC和光刻建模解決方案能夠獨立運行，或者通過Blast FusionR 或 Talus實施流程訪問。 捷碼（Magma）公司將於7月24日至27日，在美國舊金山舉辦的設計自動化大會上演示特徵表徵到矽片的有DFM意識的流程。設計師可以到網站www.magma-da.com/DAC.html註冊線上觀摩示範。 前瞻性聲明： 公共關係聯絡人
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